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HF-1100型箱式真空鍍膜機(jī)

真空室：立式前開門。內(nèi)膜Φ1100×1300，,304不銹鋼；外壁通冷卻水，內(nèi)襯不銹鋼防污板

真空系統(tǒng)：機(jī)械泵+羅茨泵+2臺(tái)擴(kuò)散泵+維持泵

極限真空：3.0E^-4pa

恢復(fù)真空：大氣至4.0E^-3pa≤15min

工作架：Φ1040mm帽形工件盤等，扇形，行星

烘烤：采用進(jìn)口管狀加熱器；最高溫度350℃，可調(diào)可控

蒸發(fā)源：電阻蒸發(fā)源，2只E型電子槍，功率10KW，數(shù)量2只

離子源：Φ12cm考夫曼（可選），進(jìn)口

光學(xué)膜厚控制：光學(xué)專用電源；光學(xué)膜厚控制儀；光柵單色儀；波長范圍380-1100nm;反射/透射

石英晶控：SQC310或IC6，低溫單探頭等

電源：3相，380V，50Hz，約50KW